1) electrochemical deposition
: 전해질 속에서 전극에 의한 이온의 이동을 통하여 구조를 만들어내는 방법
그림 4. electrochemical deposition에 의한 나노구조 |
2) electrospinning method
: 전위를 가지는 압출 노즐과 접지된 판 사이에서의 물질 이동을 통하여 구조를 만들어냄
그림 5. electrospinning에 의한 나노구조 |
3) wet chemical reaction
: 액상의 화학약품을 통하여 특정한 형상을 식각(etching)하는 방법으로 MEMS 공정에서
쓰이는 방법이다.
그림 6. wet chemical reaction에 의한 나노구조 |
4) hydrothermal synthesis
: 고온고압 하에서 물 또는 수용액을 이용하여 물질을 결정화하거나 침전, 산화시켜 합성하
는 방법
5) phase separation method
: 상분리를 통하여 나노 구조를 형성하는 방법
6) self assembly and layer-by-layer method
: 원자 또는 분자 집단이 자발적으로 일정한 패턴으로 배열되는 특성을 활용하여 구조를 형
성하는 방법
그림 7. self assembly를 통한 나노 구조 형성 |
7) plasma treatment
: 반응성 이온 또는 기체상의 화학 용매를 플라즈마의 중성 라디칼 확산을 이용하여 시료와
반응 시킴으로써 이루어지는 드라이 에칭의 한 종류
8) solution immersion method
: 용액 속에서 재료를 순차적으로 침적시킴으로써 구조를 형성하는 방법
그림 8. solution immersion에 의한 나노 구조 |
: 기체 상의 반응물을 재료 표면에 퇴적시킴으로써 구조를 형성하는 방법
10) sol-gel method
: 유기분산제에 부유되어 있는 졸(sol)에 물을 첨가하여 겔(gel)화시켜 초미립 분말, 섬유, 박막 등을 제조하는 방법
11) casting method
: 액상의 재료를 형틀에서 고화시켜 구조를 형성하는 방법
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